[实用新型]一种等离子体蚀刻装置有效
| 申请号： | 202121004613.4 | 申请日： | 2021-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN214753638U | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 张彬彬;苏财钰;张涛;苟先华;肖峰 | 申请（专利权）人： | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/02;H01J37/248;H01J37/20;H01J37/305;H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 李发兵 |
| 地址： | 402760 重庆市璧*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻装置包括腔体；进气口，进气口设于腔体的一侧，用于供目标气体通入腔体；排气口，排气口设于腔体远离进气口的一侧，用于排气；第一电极组件，第一电极组件设于腔体远离进气口的一侧，第一电极组件的不同区域相独立，能够接入不同的电压；第二电极组件，第二电极组件设于腔体远离第一电极组件的一侧，且与第一电极组件相对。通过第一电极组件的不同区域可接入不同的电压，能够实现差异化的电压控制，在一些蚀刻过程中，通过上述等离子体蚀刻装置能够达到改善蚀刻均一性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
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