[实用新型]一种半导体生产制造用光刻机有效
| 申请号： | 202121008010.1 | 申请日： | 2021-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN215297944U | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 常熟埃眸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B01D35/02 |
| 代理公司： | 天津市科航尚博专利代理事务所(普通合伙) 12234 | 代理人： | 吴疆 |
| 地址： | 215505 江苏省苏州市常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。本实用新型可以对刻印后的晶圆进行清洗，同时方便人员检测、观察晶圆上刻印的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 生产 制造 用光 | ||
【主权项】：
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