[实用新型]一种纳米压印机基片定位装置有效
申请号: | 202121016555.7 | 申请日: | 2021-05-13 |
公开(公告)号: | CN214896195U | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 常熟埃眸科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 天津市科航尚博专利代理事务所(普通合伙) 12234 | 代理人: | 吴疆 |
地址: | 215505 江苏省苏州市常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种纳米压印机基片定位装置,包括底板、环形晶圆座和丝杆座,还包括螺纹杆、弧形托块和光刻镜头座,所述底板顶部设有环形晶圆座,所述光刻镜头座设置于环形晶圆座顶部,所述环形晶圆座内设有圆形支撑块,所述环形晶圆座与圆形支撑块之间底部通过螺栓安装有圆形玻璃片,所述圆形玻璃片顶部两侧且位于环形晶圆座与圆形支撑块之间设有丝杆座,所述丝杆座两端分别通过螺栓与环形晶圆座和圆形支撑块安装连接,所述丝杆座顶部均设有弧形托块。整体纳米压印机基片定位装置使用稳定高效,可助于人员对多种规格的晶圆基片进行支撑定位,具有良好的位置校正部件,助于晶圆基片加工品质更高,具有较高的实用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 压印 机基片 定位 装置 | ||
【主权项】:
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