[实用新型]基板处理装置有效
| 申请号： | 202121061660.2 | 申请日： | 2021-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN215576096U | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 上山昇太;丸山光昭;大薗启;中岛清次 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及基板处理装置。提供一种能够针对基板处理装置减小占地面积的技术。对于包含处理模块的基板处理装置，该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件，其中，基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具有：容器载置部，其供用于收纳多个基板的容器载置；第1输送机构，其相对于容器交接基板。另外，在处理模块设有沿左右方向延伸的基板的输送路径和在该输送路径移动而相对于液处理组件输送基板的第2输送机构。另外，为了在第1输送机构和第2输送机构之间交接基板而载置基板的交接部在处理模块设于相对于输送路径的前侧且是相对于液处理组件的左侧。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
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