[实用新型]一种凸型自增强聚焦耦合光栅耦合器有效

专利信息
申请号: 202121096331.1 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN214954215U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 方青;马晓悦;胡鹤鸣;张馨丹;陈华 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: G02B6/34 分类号: G02B6/34
代理公司: 昆明人从众知识产权代理有限公司 53204 代理人: 何娇
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 实用新型涉及一种凸型自增强聚焦耦合光栅耦合器,属于集成光电子技术领域。本实用新型所述凸型自增强聚焦耦合光栅耦合器从下至上包括硅衬底、埋氧层、波导层、上包层,所述埋氧层为SiO2层,所述波导层为硅层阵列波导光栅,所述上包层上设有SiO2层凸面。本实用新型提供一种新型的光栅结构,本实用新型所述上包层设置为凸透镜结构,用于聚焦作用,可以最大限度增大光纤与光栅之间的光耦合,减小耦合损坏;本实用新型所述凸型自增强聚焦耦合光栅耦合器耦合效率高、应用前景广,使用成熟的制造工艺就能被设计实现。
搜索关键词: 一种 增强 聚焦 耦合 光栅 耦合器
【主权项】:
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