[实用新型]一种改善腔内耦合与向外辐射性能的结构及电子设备有效

专利信息
申请号: 202121265564.X 申请日: 2021-06-08
公开(公告)号: CN213694299U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 孙之琳 申请(专利权)人: 荣耀终端有限公司
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K1/18;H05K9/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 518040 广东省深圳市福田区香蜜湖街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开一种改善腔内耦合与向外辐射性能的结构及电子设备,涉及终端设备领域,该结构解决了在屏蔽罩内部需要额外分腔的问题,减少了布局局限和对电路板布板面积的占用,使得第一器件和其它器件可以放置于同一腔内,提高了布局灵活性。该结构包括电路板以及设置在电路板上的第一器件和其它器件,还包括设置在电路板上的环形的第一屏蔽板,第一屏蔽板上设置有第二屏蔽板,电路板、第一屏蔽板和第二屏蔽板形成一封闭的屏蔽罩,第一器件和其它器件位于屏蔽罩内,第二屏蔽板靠近电路板的一侧设置有吸波板,吸波板与第一器件正对设置,吸波板用于吸收第一器件所产生的电磁波。
搜索关键词: 一种 改善 耦合 向外 辐射 性能 结构 电子设备
【主权项】:
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