[实用新型]一种用于微透镜阵列制造的一体化装置有效
| 申请号： | 202121277696.4 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN215005943U | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 于圣韬;宋毅;桂成群;薛兆丰;董坤 | 申请（专利权）人： | 矽万（上海）半导体科技有限公司;武汉大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人： | 丁利华 |
| 地址： | 200131 上海市浦东新区自由*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于微透镜阵列制造的一体化装置，包括：用于光刻的激光直写腔、第一真空过渡舱门、用于光刻胶显影的显影转运腔、第二真空过渡舱门以及用于刻蚀加工的等离子体刻蚀腔，所述激光直写腔与所述显影转运腔通过所述第一真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离，所述显影转运腔与所述等离子体刻蚀腔通过第二真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离。本实用新型将激光直写光刻设备、显影设备、等离子体刻蚀机的多个功能集成于一体，能够实现微透镜阵列的一体化制造。由于本实用新型装置集成度高，中间步骤少，洁净度高，有效减少了芯片制造工艺中的风险。另外，本实用新型所述的装置自动化程度高，结构简单，节省了人工成本和设备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 透镜 阵列 制造 一体化 装置 | ||
【主权项】：
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