[实用新型]一种掩膜版清洗剂使用喷淋设备有效
申请号: | 202121336368.7 | 申请日: | 2021-06-16 |
公开(公告)号: | CN215576093U | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 刘小勇;房龙翔;叶鑫煌 | 申请(专利权)人: | 福建省佑达环保材料有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B3/02;B08B3/08 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 张爱红 |
地址: | 362100 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种掩膜版清洗剂使用喷淋设备,涉及掩膜版清洗设备领域,针对现有的掩膜版采用浸泡清洗方式清洁效果不佳,影响掩膜版使用寿命,增加显示器制备成本的问题,现提出如下方案,其包括清洗槽和安装箱,所述清洗槽的顶端内部固定安装有两个呈横向设置的托架,且所述清洗槽内部设有出水口,所述清洗槽的两端均设有夹持装置,所述夹持装置包括夹板和安装板,所述清洗槽的顶端上均设有喷淋装置,所述喷淋装置包括蓄水管和支撑架,所述清洗槽的两侧壁上设有联动装置。本实用新型结构新颖,且该装置不仅可以对掩膜版进行流动式清洗,还可以实现清洗过程中对掩膜版夹持稳定,降低掩膜板清洗受损的概率,延长其使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版清 洗剂 使用 喷淋 设备 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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