[实用新型]一种交叉斜纹的阻流块结构有效

专利信息
申请号: 202121393237.2 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN217368996U 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 胡文;代昊 申请(专利权)人: 宁德中能电子设备有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 黄诗锦;蔡学俊
地址: 352000 福建省宁德*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型涉及一种交叉斜纹的阻流块结构,包括长方体状的阻流块本体,所述阻流块本体的底面设有交叉分布的斜纹,所述斜纹包括多个依次分布的第一斜纹和多个依次分布的第二斜纹,多个第一斜纹和第二斜纹交叉分布,所述第一斜纹和第二斜纹为凹槽。通过将阻流块的底面设计成交叉分布的凹槽式斜纹结构,当出现台阶时,涂布时涂布液可沿着斜纹流动,即实现了涂布液的流向,这样就解决了涂布出现暗痕鼓筋的问题,克服了现有阻流块的底面采用平面结构造成的不足。
搜索关键词: 一种 交叉 斜纹 阻流块 结构
【主权项】:
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