[实用新型]一种光刻机及其掩膜结构

摘要

本实用新型涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻机及其掩膜结构，其中，掩膜结构包括上模板、下模板、掩膜安装板和掩膜板；掩膜安装板为浮动板，且用于安装在上模板上；掩膜板用于安装在掩膜安装板上，以随掩膜安装板一起运动；下模板用于承载晶圆；上模板可相对下模板升降，以带动掩膜板相对靠近或远离晶圆，掩膜板相对靠近晶圆时还可与晶圆相抵。根据本实用新型的方案，当上模板带动掩膜板靠近晶圆直至与晶圆相抵时，掩膜板在下压晶圆的过程中可以受晶圆推动，而使自身的各个边角发生不同程度的运动，以补偿各边角与晶圆之间的间隙，使掩膜板的各个边角均与晶圆贴合，从而可以提高掩膜板与晶圆的平行度。