[实用新型]一种光刻机大理石平台有效
| 申请号： | 202121642417.X | 申请日： | 2021-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN215219418U | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 黄良斌;刘冉;孙润光;孙润文 | 申请（专利权）人： | 领先光学技术（常熟）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 常州易瑞智新专利代理事务所(普通合伙) 32338 | 代理人： | 曹锦涛 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻机大理石平台，属于光刻机技术领域。包括：基础组件和运动组件；其中，基础组件包括采用大理石材料制成基座，设置在所述所基座上方、采用大理石材料制成的横梁；运动组件为三坐标运动机构，包括水平设置在所述基座上的X轴直线运动模组，水平设置在所述横梁上的Y轴直线运动模组，以及设置在所述Y轴直线运动输出端的Z轴直线运动模组。本实用新型通过采用大理石材料作为基座和横梁，减小了温度对平台的平整度和连接契合度的影响，进而提高平台的运动精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 大理石 平台 | ||
【主权项】：
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