[实用新型]一种管式PECVD设备及其镀膜腔加热装置有效
申请号: | 202121671641.1 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN215713369U | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 朱双双;左敏;刘强;潘景伟 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505;C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李宏志 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开一种管式PECVD设备及其镀膜腔加热装置,镀膜腔加热装置包括两组对称地设于石墨舟上下两侧的加热组件,使镀膜腔的热场温度更均匀,有利于石墨舟均匀受热。每组加热组件包括若干根沿线性均匀铺设于石墨舟表面的加热棒,使石墨舟的表面均匀受热,避免石墨舟因尺寸过大而受热不均匀。石墨舟均匀受热,可避免硅片色差过大,有利于提升镀膜质量。每根加热棒包括至少两根加热丝、包裹于全部加热丝外周的支撑套及填充于支撑套内并用于隔开相邻两根加热丝的绝缘体通过改变加热器的类型来提升其使用寿命,降低故障率,降低镀膜腔内的热场温度不均匀的风险,仍能提升镀膜质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 设备 及其 镀膜 加热 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的