[实用新型]一种超声波扫查仪高质量成像装置有效

专利信息
申请号: 202121690844.5 申请日: 2021-07-23
公开(公告)号: CN215415224U 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 历德义;丁兆达 申请(专利权)人: 上海季丰电子股份有限公司
主分类号: G01N29/06 分类号: G01N29/06;G01N29/22;G01F23/00;G01N27/06
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 沈栋栋
地址: 201100 上海市闵行*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种超声波扫查仪高质量成像装置,包括:水箱、超声波查扫机构、承载台、供水机构、液位检测机构、排水机构和电阻率检测头,水箱内存储有去离子水,供水机构与水箱的内部连通,供水机构用于向水箱内注入去离子水,液位检测机构安装于水箱内,液位检测机构用于检测水箱内的液面高度,排水机构与水箱的内部连通,排水机构内设置有电阻率检测头,承载台设置于水箱内,承载台上承载有待检测的芯片。通过对本实用新型的应用,提供了一种以去离子水作为超声波检测介质的芯片检测设备,降低了污染物以及其他离子等杂质混入去离子水中对检测结果带来的干扰,进一步地提高了芯片的检测效率和检测质量。
搜索关键词: 一种 超声波 扫查仪高 质量 成像 装置
【主权项】:
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