[实用新型]一种ALD与CVD配合使用的薄膜材料制备系统

摘要

本实用新型公开了一种ALD与CVD配合使用的薄膜材料制备系统，属于薄膜材料制备领域。一种ALD与CVD配合使用的薄膜材料制备系统，包括：射频单元、反应腔和注入单元；所述射频单元通过产生交变磁场在所述反应腔的内部生成感应电流；所述反应腔的内部设置有反应座；所述反应腔与所述注入单元连接；所述注入单元包括混合罐和喷头；与现有技术相比，本实用新型通过在反应腔体外部加上PE功能，利用射频电源产生的交变磁场在反应腔内感应交变电流，使反应气体产生高密度等离子体，从而促进薄膜的沉积和生长；同时喷头采用特殊的流道设计，可使气体或者蒸汽均匀地传递和分散到反应腔体中。