[实用新型]一种直写式光刻机的光学系统有效
| 申请号： | 202121767959.X | 申请日： | 2021-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN216351771U | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 张柯;魏帅;董昱君;张雷 | 申请（专利权）人： | 源能智创（江苏）半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215399 江苏省苏州市昆山市玉*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种直写式光刻机的光学系统，包括多个相同的光学子系统，每个光学子系统包括：照明模块，配置为产生光刻所需的照明光束；空间光调制模块，配置为对照明光束进行调制以形成图形光；第一双远心成像模块，配置为对所述空间光调制模块产生的图形光进行成像，以形成像面光斑；微透镜阵列模块，配置为将所述第一双远心成像模块形成的像面光斑聚焦成为光斑阵列；第二双远心成像模块，配置为将光斑阵列再次成像并投射到基板上；调焦模块，包括可相对移动的上直角楔形棱镜和下直角楔形棱镜，配置为调节所述光学子系统的焦面。采用上述光学子系统能够显著提高光刻图形的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 直写式 光刻 光学系统 | ||
【主权项】：
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