[实用新型]一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置有效

专利信息
申请号: 202121773215.9 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN215894167U 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 郝昕;甘林;胡世鹏;孙慧斌;赵海歌;罗奇;钟健;吴正新 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32;C30B33/10
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 于建
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置,涉及位错密度测量技术领域。该位错腐蚀装置包括若干层由上至下依次平行排列的放置台,放置台可用于放置片状的晶体,所述放置台的中间设有贯通的第一流通孔,第一流通孔用于供腐蚀液流通并腐蚀晶体表面的位错。该位错腐蚀装置放置于盛有腐蚀液的器皿中,通过在放置台上放置晶体,便于对晶体进行腐蚀,结构独特,通过第一流通孔保证晶体下方的腐蚀液流通,可放置多片晶体进行同时腐蚀,节约腐蚀时间和腐蚀液,相比现有技术采用塑料网导致塑料网内的晶体容易发生倾斜,晶体的下表面接触塑料网导致腐蚀不充分等问题,本申请位错腐蚀装置,晶体放置于放置台上不易倾斜,接触面积小,腐蚀充分。
搜索关键词: 一种 用于 浸蚀 腐蚀 装置
【主权项】:
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