[实用新型]一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置有效
申请号: | 202121773215.9 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN215894167U | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 郝昕;甘林;胡世鹏;孙慧斌;赵海歌;罗奇;钟健;吴正新 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32;C30B33/10 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 于建 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置,涉及位错密度测量技术领域。该位错腐蚀装置包括若干层由上至下依次平行排列的放置台,放置台可用于放置片状的晶体,所述放置台的中间设有贯通的第一流通孔,第一流通孔用于供腐蚀液流通并腐蚀晶体表面的位错。该位错腐蚀装置放置于盛有腐蚀液的器皿中,通过在放置台上放置晶体,便于对晶体进行腐蚀,结构独特,通过第一流通孔保证晶体下方的腐蚀液流通,可放置多片晶体进行同时腐蚀,节约腐蚀时间和腐蚀液,相比现有技术采用塑料网导致塑料网内的晶体容易发生倾斜,晶体的下表面接触塑料网导致腐蚀不充分等问题,本申请位错腐蚀装置,晶体放置于放置台上不易倾斜,接触面积小,腐蚀充分。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 浸蚀 腐蚀 装置 | ||
【主权项】:
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