[实用新型]一种研磨充分的化工原料研磨装置有效

专利信息
申请号: 202121835593.5 申请日: 2021-08-07
公开(公告)号: CN215694451U 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 田泰铭 申请(专利权)人: 成都中科汇川科技有限公司
主分类号: B02C13/18 分类号: B02C13/18;B02C13/282;B02C13/30;B02C13/26;B08B7/02;B08B9/08
代理公司: 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 代理人: 王霞
地址: 610000 四川省成都市温江区柳*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种研磨充分的化工原料研磨装置,包括底板,底板的外壁固定连接有伸缩架,伸缩架的外壁固定接有伺服电机,伸缩架的外壁固定连接有减速器,减速器的内壁与伺服电机的输出端固定连接,减速器的内壁转动连接有圆棒,底板的顶部设有圆杆,圆杆的外壁转动连接有定位板,定位板的底部与底板的外壁固定连接,圆杆的外壁固定套有矩形块,矩形块的外壁活动连接有基台,基台的外壁固定连接有圆筒。通过设置圆杆等结构,避免一般的研磨装置对于原料研磨的不够充分,尤其是靠近容易内壁的原料不易被研磨到,从而降低了工作效率。
搜索关键词: 一种 研磨 充分 化工原料 装置
【主权项】:
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