[实用新型]一种碳化硅MPS二极管结构有效

专利信息
申请号: 202121941689.X 申请日: 2021-08-18
公开(公告)号: CN215527735U 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 金宰年;叶宏伦;钟其龙;刘芝韧;刘崇志 申请(专利权)人: 北京利宝生科技有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/04
代理公司: 泉州市文华专利代理有限公司 35205 代理人: 陈雪莹
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种碳化硅MPS二极管结构,其在外延层上方设置多晶SiC层,并通过多晶SiC层形成P型网格和P型防护结,由于多晶SiC层为多晶体结构,其在形成P型网格和P型防护结时不需同时施加高压和高温,因此,不会破坏外延层以及P型体的晶体结构,由此改善器件反偏压漏电流、肖特基势垒降低效应的情况。此外,由于多晶体SiC层的设置,改善了阳极金属和P网格层的欧姆接触特性,可以在大电流涌动的情况下有效地防护器件。
搜索关键词: 一种 碳化硅 mps 二极管 结构
【主权项】:
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