[实用新型]一种用于制备金刚石膜的沉积台有效
申请号: | 202122181572.2 | 申请日: | 2021-09-10 |
公开(公告)号: | CN215517623U | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 冯曙光;于金凤;李光存 | 申请(专利权)人: | 安徽光智科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/458;C23C16/54 |
代理公司: | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人: | 肖小龙 |
地址: | 239064 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于化学气相沉积技术领域,具体公开了一种用于制备金刚石膜的沉积台,所述沉积台包括:衬底托,所述衬底托上顶面设置有容纳衬底的衬底卡槽;基座,所述基座为轴对称结构,所述基座包括相互平行设置的圆形上顶面和圆形下底面,所述基座的上顶面中心沿其中心轴方向内凹形成容纳所述衬底托的阻温槽,所述阻温槽内侧壁与所述衬底托外侧壁之间留有一定间隙,所述衬底托、阻温槽、衬底卡槽均为圆柱结构或正棱柱结构,所述衬底托厚度阻温槽深度衬底托厚度+衬底厚度阻温槽深度+2mm。本实用新型结构简单,易于生产制造,降低了生产成本,具有良好的工业应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 金刚石 沉积 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽光智科技有限公司,未经安徽光智科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202122181572.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种消毒装置
- 下一篇:一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的