[实用新型]薄膜沉积装置

摘要

本申请提供一种薄膜沉积装置，包括反应室和设置于反应室内的晶舟、反应气管及调节气管，反应气管和调节气管沿晶舟的周向分布于晶舟的外侧。晶舟用于承载沿垂直方向间隔排布的多个晶片。反应气管用于向反应室内通入反应气体，以在每一晶片的表面上形成薄膜。调节气管的朝向晶舟的侧壁沿垂直方向自上而下依次开设有第一喷气孔组、第二喷气孔组以及第三喷气孔组。其中，第一喷气孔组、第二喷气孔组和第三喷气孔组分别与晶舟在垂直方向上的顶部区域、中部区域和底部区域一一正对，且分别用于向晶舟的对应区域喷射惰性气体，以调节晶舟对应区域内承载的多个晶片表面的反应气体的流量，从而使不同层面的多个晶片上形成厚度适当且一致性高的薄膜。