[实用新型]一种基于拜耳列阵的高透过率和解析度像素结构有效

专利信息
申请号: 202122350491.0 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN216052543U 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 余剑辉;李小龙;马一;朱书纬;吴美叶;邱旭平 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种基于拜耳列阵的高透过率和解析度像素结构,包括提供两种模式,单畴和双畴,并提供一种较为简单的单栅极电路驱动结构;其中像素结构的主要特征在于每个主像素区包含五个子像素区,依次相邻的四个子像素区沿顺时针方向分别为R子像素区、G子像素区、B子像素区和G子像素区,此四个子像素中间为W子像素区,本实用新型的基于拜耳列阵的高透过率和解析度像素结构在维持现有彩膜制作工艺流程的前提下,通过设计新型像素结构,有效提高面板透过率和解析度,降低面板功耗,提升面板品质。
搜索关键词: 一种 基于 列阵 透过 解析度 像素 结构
【主权项】:
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