[实用新型]一种晶圆单片生产用清洗装置有效

专利信息
申请号: 202122429853.5 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN215656722U 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 王长东 申请(专利权)人: 苏州军科域光电科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市苏州工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆单片生产用清洗装置,包括高压清洗枪,所述高压清洗枪的内侧下部设有流道,所述高压清洗枪的一侧设有与流道连通的供液管,所述流道的内侧设有导套,且导套的底端伸至高压清洗枪的下方,所述导套通过多个均匀设置的撑片与流道的内壁固定连接。本实用新型中,采用高压清洗枪对晶圆表面的淤渣进行冲洗,为避免淤渣在冲洗过程中反复摩擦晶圆表面,故在开始清洗时,调节组件处于收缩状态,此时喷出的清洗液集中在晶圆的中心,随着伸缩电机的动作传动杆逐渐下移将调节组件撑开,使得喷出的清洗液由点变为环状,并逐渐向晶圆边沿移动,从而实现从中心向边沿的同步清洗,减少晶圆表面磨损的同时,提高了清洗效率。
搜索关键词: 一种 单片 生产 清洗 装置
【主权项】:
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