[实用新型]双光罩滚轮调整视角光刻设备有效
| 申请号： | 202122615767.3 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN216052604U | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 林刘恭 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 王侠 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双光罩滚轮调整视角光刻设备，其包括一滚轮固定装置以及与滚轮固定装置间隔开地设置的一光刻装置。滚轮固定装置用来固定包覆有一光阻层的一金属滚轮。光刻装置包含两个曝光光源及安装于两个曝光光源的两个光罩，并且两个曝光光源分别能用来配合两个光罩对光阻层的相同区域照射一第一光刻光线及一第二光刻光线。两个光罩分别形成有彼此间隔开且相互平行的多个正弦波图案，并且一个光罩的每个正弦波图案的长度方向垂直于另一个光罩的每个正弦波图案的长度方向，而两个光罩的任一个正弦波图案的线宽与线距的比值介于2/8～8/2之间。由此，降低工艺成本并减少作业时间。 | ||
| 搜索关键词： | 双光罩 滚轮 调整 视角 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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