[实用新型]一种表面光滑程度可调节的氧化锆舟顶齿有效
| 申请号： | 202122633748.3 | 申请日： | 2021-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN216902845U | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 杨俊华;周健 | 申请（专利权）人： | 江苏铭百圣耐火有限公司;宜兴市泰合源陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673 |
| 代理公司： | 无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208 | 代理人： | 高坤明 |
| 地址： | 214226 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种表面光滑程度可调节的氧化锆舟顶齿，涉及氧化锆舟顶齿技术领域，为解决现有氧化锆舟顶齿表面多数都是光滑一体的，光滑程度不便调节，导致接触物与其表面接触后移动速度调节不便的问题。所述氧化锆舟顶齿主体的一端设置有氧化锆舟顶齿顶座，所述氧化锆舟顶齿顶座的一侧设置有初始限位条，所述初始限位条的下方设置有防滑限位条，所述氧化锆舟顶齿主体的内部设置有调节板，所述调节板的上表面设置有光滑调节圆顶，所述调节板的一端设置有调节座，所述氧化锆舟顶齿主体的上表面设置有光滑调节槽，所述氧化锆舟顶齿主体的另一端设置有顶齿缝隙，所述顶齿缝隙的内部设置有顶齿垫片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 光滑 程度 调节 氧化锆 舟顶齿 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
