[实用新型]一种光刻机晶圆工作平台用清洁工具有效
| 申请号： | 202122729234.8 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN217639929U | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 韩洋;黄俊;徐晓敏 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻机晶圆工作平台用清洁工具，包括手持部和清洁部，其中，手持部包括手柄和连接端，连接端形成于手柄的末端，清洁部包括研磨盘和固定盘，研磨盘组装于固定盘的底面；固定盘安装于连接端以使清洁部安装于手持部。本实用新型提供的清洁工具，清洁部不易从手持部脱落导致损坏，更不易对晶圆工作平台造成损伤；本清洁工具采用无尘材质，符合无尘车间的要求；本清洁工具的手柄具有防滑结构，不易从操作者的手中滑落，使用安全性高；另外，通过对手柄尺寸的限定，使清洁工具更具使用的便捷性和舒适性。本实用新型结构简单，实用性强，便于广泛应用于半导体制备工厂内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 机晶圆 工作 平台 清洁 工具 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202122729234.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种工程施工用钢筋切割装置
- 下一篇：变电站二次电压多功能检测装置
