[实用新型]一种双离子束共溅射纳米膜装置有效
| 申请号： | 202122760509.4 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN217077773U | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 陆桥宏;曹俊 | 申请（专利权）人： | 江苏籽硕科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;B08B9/093 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 孙峰 |
| 地址： | 225300 江苏省泰州市医药高新技术产业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双离子束共溅射纳米膜装置，包括箱体和真空泵，所述箱体靠近底端位置处安装有底板，所述箱体顶端中间位置处通过轴承安装有旋转轴，所述旋转轴底端位于箱体内部靠近顶端位置处安装有支撑座，所述支撑座底端中间位置处通过磁力座安装有原料板，所述旋转轴外表面靠近顶端位置处安装有齿轮A，所述箱体内部靠近顶端两侧位置处均安装有离子源，所述箱体前表面中间位置处安装有箱门。本实用新型解决了现有装置靶材材料多采用固定设置，无法进行调整，覆膜材料较为单一，覆膜效果不佳，且多采用单个离子源对原料进行溅射覆膜，覆膜效率低，生产效率不佳的问题，提高了本实用新型的生产效率和覆膜效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子束 溅射 纳米 装置 | ||
【主权项】：
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