[实用新型]一种半导体框架清理设备有效

专利信息
申请号: 202122819005.5 申请日: 2021-11-17
公开(公告)号: CN217094753U 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 周仪;唐伟炜;丁海春;吴庆华;张竞扬;龚凯;柯军松;徐晓枫;李广钦;刘阳;孙涛;戴文兵;张世铭;叶沛 申请(专利权)人: 合肥速芯微电子有限责任公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B5/04;H01L21/48
代理公司: 上海和华启核知识产权代理有限公司 31339 代理人: 王娜娜
地址: 230001 安徽省合肥市高新区创*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型揭示了一种半导体框架清理设备,包括安装外壳,所述安装外壳一侧设置有密封门,所述安装外壳内部水平设置有置物架,所述置物架上方设置有至少一组清理组件,所述置物架下方设置有至少一根抽气管。本实用新型自动对半导体框架上的杂质进行清理,避免框架变形,且清理效率高、效果好,降低生产成本。
搜索关键词: 一种 半导体 框架 清理 设备
【主权项】:
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