[实用新型]压印衬底有效
申请号: | 202122826474.X | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN216647081U | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | 徐琦;张国伟;刘博;蒋超;田克汉;王淼 | 申请(专利权)人: | 北京驭光科技发展有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G02B3/00;G02B5/18 |
代理公司: | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 郝文博 |
地址: | 100083 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种压印衬底,用于固定于压印设备的载物台上,压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底,压印衬底包括:功能部和稳定部,功能部用于涂覆光固化或热固化胶水,功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区,有效区用于作为纳米压印图形的承载区域。稳定部固定设置于功能部的无效区上,且稳定部的厚度大于功能部的厚度。本实用新型的实施例利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程中的内缩应力,避免了衬底翘曲变形,提高了产品的合格率,进而为选择大尺寸超薄衬底提供了条件。同时,本实用新型还提供了一种压印方法,依靠前述的压印衬底进行纳米压印。 | ||
搜索关键词: | 压印 衬底 | ||
【主权项】:
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