[实用新型]一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台有效
申请号: | 202122932580.6 | 申请日: | 2021-11-26 |
公开(公告)号: | CN216614843U | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 刘鲁生;姜辛;黄楠;翟朝峰;杨兵 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/511;C23C16/27 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型金刚石膜生长领域,尤其涉及一种可变尺寸的高功率微波等离子体化学气相沉积设备偏压样品台。该样品台的基片放置在钼台的顶部凹槽内,钼台的底部中心沿竖向安装钼螺栓,上下相对水平设置的样品台支座、样品台陶瓷板,与左右相对设置的左L型立板、右L型涉及立板组合为长方体框架结构,钼台通过钼螺栓固定在水平设置的样品台陶瓷板上,样品台支座通过竖向设置的支撑螺栓固定在腔室底板上,直流电源依次通过电源线、航空密封接头、高温导线、钼螺栓与钼台相连接。本实用新型解决了微波法化学气相沉积金刚石薄膜沉积过程中反应腔体内基片表面增加负偏压电场的均匀性问题,制备出均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量金刚石单晶膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 可变 尺寸 功率 微波 等离子体 化学 沉积 设备 偏压 样品 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的