[实用新型]一种低硼硅玻璃安瓿刻痕装置有效

专利信息
申请号: 202122981168.3 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN216785992U 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 申英龙;蒋海全;孔凡亮;张衍青 申请(专利权)人: 济源市金信实业有限公司
主分类号: C03B33/06 分类号: C03B33/06
代理公司: 郑州万创知识产权代理有限公司 41135 代理人: 薛雁超
地址: 459000*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种低硼硅玻璃安瓿刻痕装置,其特征在于:包括顶部连接导轨,顶部连接导轨顶部设有纵向布置的传动电机,传动电机左侧轴端连接设有横向布置的第一传动杆,第一传动杆左侧面连接设有第五滑块,第五滑块左侧连接设有竖直向下布置的第二垂直导轨,第二垂直导轨左侧面底部连接设有纵向传动电机,第二垂直导轨底部连接设有第三滑块,第三滑块底部设有纵向布置的第二底部导轨,第二底部导轨和第三滑块配合连接,传动电机右侧轴端连接设有横向布置的第二传动杆,第二传动杆右侧面连接设有第一滑块,第一滑块右侧连接设有竖直向下布置的第一垂直导轨,本实用新型的有益效果为:具有可以灵活调节,结构简单易实现。
搜索关键词: 一种 低硼硅 玻璃 安瓿 刻痕 装置
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