[实用新型]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 202123011925.0 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN217114391U 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 叶长福;陈旋旋;上官明沁;冯立伟 申请(专利权)人: 福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 董琳
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开一种本半导体存储装置,来优化最终生产的存储装置的电性。本申请提供的一种半导体存储装置包括:衬底,上表面形成有接触窗,内部形成有有源区,所述有源区暴露于所述接触窗;阻挡层,位于所述衬底上表面;衬垫,位于所述接触窗内,上表面高于所述阻挡层的上表面,且所述衬垫并与所述接触窗暴露的有源区相接触,且所述衬垫至少包括第一材料层,所述第二材料层的最下表面低于所述第一材料层的最上表面。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
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