[实用新型]一种平板式外延炉的吸盘装置有效
申请号: | 202123064343.9 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN216528819U | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 赵叶军;张倩;薛宏伟;袁肇耿;仇根忠;任丽翠 | 申请(专利权)人: | 河北普兴电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 张一 |
地址: | 050200 河北省石*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种平板式外延炉的吸盘装置,属于半导体加工设备技术领域,包括吸盘,在吸盘内部设置有吸气腔,在吸盘的外侧设置有连接杆,连接杆为中空结构,且连接杆的一端固定在吸盘的外侧且与吸盘内部的吸气腔连通,在连接杆的另一端设置有吸气口,在吸盘上还固定设置有支撑杆,支撑杆为中空结构支撑杆的一端固定连接在吸盘上且与吸盘内部的吸气腔连通,本实用新型通过将支撑杆的另一端与吸气机构连接,使吸气机构的吸气端与支撑杆内部连通,从而使吸气腔内产生负压,可以将吸气孔移动至裂片处或石墨基座内部能够将裂片从石墨基座内部吸出,或将石磨基座内部的杂质颗粒吸除,操作过程简单、方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 平板 外延 吸盘 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造