[实用新型]一种四坩埚蒸发源有效
| 申请号： | 202123109582.1 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN216639707U | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 刘玉翔;肖文德;乔璐;李骥;张旭;彭祥麟;肖佩瑶;韩俊峰;姚裕贵 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学;北京理工大学长三角研究院（嘉兴） |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B25/14 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 杨潇;仇蕾安 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种四坩埚蒸发源，包括：法兰组件、水冷组件、坩埚组件以及快门组件，法兰组件包括：真空法兰和电极法兰，水冷组件和快门组件均贯穿所述真空法兰设置，坩埚组件固定安装在水冷组件顶部；坩埚组件包括：坩埚隔板、四个坩埚台、四个坩埚台帽、四个坩埚、坩埚罩以及四个加热单元；坩埚台的外圆周加工有一环形真空空腔；每个加热单元设置在对应坩埚台的侧壁内部；坩埚隔板与所述坩埚罩围成四个独立空间，每个独立空间中容置一个坩埚台；本实用新型隔热效果好，便于控制温度，提高加热效率，在双坩埚蒸发源的基础上，增加两个蒸发源，从而提高分子束外延设备的容量和使用效率、节省成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 蒸发 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学;北京理工大学长三角研究院（嘉兴），未经北京理工大学;北京理工大学长三角研究院（嘉兴）许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202123109582.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于手术室护理的寻针器
- 下一篇：一种防尘光纤跳线
