[实用新型]一种深紫外外延片有效

专利信息
申请号: 202123126915.1 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN216849975U 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 解向荣;吴永胜;刘恒山;马野 申请(专利权)人: 福建兆元光电有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/12;H01L33/00
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 林振杰
地址: 350109 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种深紫外外延片,深紫外外延片包括P型氮化镓,P型氮化镓包括依次生长的P型铝镓氮层、氮化铝层、P掺杂氮化镓层和重掺杂P型铝镓氮层。其中,P型铝镓氮层可以有效减少深紫外光的吸收;氮化铝层在有效减少深紫外光吸收的基础上,可以有效减少量子阱能带弯曲,提高量子阱空穴的注入;P掺杂氮化镓层可以实现高掺杂,提高量子阱空穴的注入;重掺杂P型铝镓氮层,可以有效实现芯片工艺的欧姆接触,同时可以有效减少深紫外光吸收。因此结合P型氮化镓包含的四个结构层能够减少对深紫外光的吸收,提高深紫外LED的发光效率。
搜索关键词: 一种 深紫 外延
【主权项】:
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