[发明专利]半导体元件和半导体装置在审
申请号: | 202180013173.5 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN115053355A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 松原佑典;今藤修;安藤裕之;竹原秀树;四户孝;冲川满 | 申请(专利权)人: | 株式会社FLOSFIA |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L21/28;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/47;H01L29/786;H01L21/336;H01L21/329 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 刁兴利;康泉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种半导体特性及散热性优异的半导体元件及半导体装置。一种半导体元件,包含层叠结构体,该层叠结构体通过在导电性基板上直接或隔着其他层层叠有氧化物半导体膜而成,所述氧化物半导体膜包括含有镓的氧化物作为主成分,所述导电性基板具有比所述氧化物半导体膜大的面积,所述半导体装置通过所述半导体元件与引线框、电路基板或散热基板利用接合部件接合而成。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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