[发明专利]用于控制制造过程的方法和关联设备在审

专利信息
申请号: 202180013688.5 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN115066657A 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: J·S·威尔登伯格;H·A·迪伦;冯帆;R·范埃特森;W·L·范米罗;科恩·蒂斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种用于控制在衬底上制造半导体器件的过程的方法和关联设备。所述方法包括:获得与所述过程相关的过程数据,以及基于所述过程数据和与所述衬底上的所述器件相关联的第一控制目标来确定所述过程的校正。所述第一控制目标可实现的第一概率被确定,并且所述校正基于所述概率和至少第二控制目标来调整,所述第二控制目标与所述第一控制目标相比具有可实现的第二概率。
搜索关键词: 用于 控制 制造 过程 方法 关联 设备
【主权项】:
暂无信息
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