[发明专利]用于化学气相沉积反应器的基座在审
| 申请号： | 202180015499.1 | 申请日： | 2021-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN115176349A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | S·坎丹;A·伊格纳提夫;M·诺沃日洛夫;J·朱厄特 | 申请（专利权）人： | 梅托克斯技术公司 |
| 主分类号： | H01L39/24 | 分类号： | H01L39/24;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 沉积反应器(800)中使用的基座(200)提供热量输入并控制错误沉积的累积。基座加热反应器内的基板带(120)，基板带上沉积有一层或多层薄膜，特别是在金属有机化学气相淀积MOCVD反应器中产生的高温超导HTS薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 沉积 反应器 基座 | ||
【主权项】：
暂无信息
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