[发明专利]发射辐射的设备和用于制造发射辐射的设备的方法在审
| 申请号： | 202180016169.4 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN115152018A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 彼得·布里克;克劳斯·弗勒克;梅尔廷·莫里茨 | 申请（专利权）人： | 艾迈斯-欧司朗国际有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L25/075 | 分类号： | H01L25/075;H01S5/42;H01L33/58;H01L27/15;H01S5/026;H01S5/183 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 支娜;蒋静静 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出一种发射辐射的设备，其具有多个发射器(1)和多个光学元件(2)，其中发射器沿着第一发射器方向(dE1)以第一平均发射器间距AE1并且沿着倾斜于或垂直于第一发射器方向伸展的第二发射器方向(dE2)以第二平均发射器间距AE2设置，并且其中光学元件沿着第一光学方向(dO1)以第一平均光学间距(AO1)并且沿着倾斜于或垂直于第一光学方向伸展的第二光学方向(dO2)以第二平均光学间距AO2设置，并且其中满足以下四个条件中的至少一个条件：(i)NE1*AE1*cosφ＝m2*AO1，(ii)NE2*AE2*sinφ＝m4*AO1，(iii)NE1*AE1*sinφ＝m1*AO2，和(iv)NE2*AE2*cosφ＝m3*AO2，其中NE1是沿着第一发射器方向的发射器的数量，NE2是沿着第二发射器方向的发射器的数量，φ是在第一发射器方向和第一光学方向之间的角度，并且m1、m2、m3和m4分别是因数。此外，提出一种用于制造发射辐射的设备的方法，所述设备具有多个发射器和多个光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 发射 辐射 设备 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
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