[发明专利]电催化剂层印花在审
| 申请号： | 202180021230.4 | 申请日： | 2021-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN115298861A | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | J·库尔;A·迪金森;J·奥沙利文;S·皮蒂拉 | 申请（专利权）人： | 庄信万丰氢能科技有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/86 | 分类号： | H01M4/86;H01M4/92;H01M4/88 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 孟秀娟;臧建明 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种催化转印基底，该催化转印基底包括转印基底、电催化剂层和位于该转印基底和该电催化剂层之间的层D，该层包括离子导电聚合物和碳材料。该层D被配置为使得在将该电催化剂层转移到表面上时，该层D的至少一部分保持附接到该电催化剂层并随该电催化剂层转移。 | ||
| 搜索关键词： | 催化剂 印花 | ||
【主权项】：
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