[发明专利]还原处理方法在审
| 申请号： | 202180029430.4 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN115427609A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 岛本章弘 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | C23G5/00 | 分类号： | C23G5/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 满凤;金龙河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供通过比较简单的处理工序高效地生成还原所需的量的氢自由基并对被处理物的表面进行还原的还原处理方法。还原处理方法中，对氢自由基源含有物照射波长为255nm以下的紫外光而生成氢自由基，使生成的上述氢自由基与被处理物的表面接触而对上述表面进行还原。 | ||
| 搜索关键词： | 还原 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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