[发明专利]具有涂层感测区的光罩盒在审
| 申请号： | 202180032956.8 | 申请日： | 2021-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN115552332A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | R·V·拉施克;王华平 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 使用干式涂布方法在光罩容器的内盒上产生感测区。所述感测区是具有特定光谱反射率的离散区。所述感测区经定位使得其可通过工具读取以确定所述盒的部分的距离。与用材料完全镀覆的内盒或其它湿式涂布施覆的材料相比，使用离散区及干式涂布方法用于施覆所述离散区会克服清洁或维持所述光罩容器的内盒的反射比时的不一致性及困难的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 涂层 感测区 光罩盒 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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