[发明专利]具有减少清洁的用于处理凸版前体的设备和方法在审
申请号: | 202180032995.8 | 申请日: | 2021-05-05 |
公开(公告)号: | CN115552337A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 巴尔特·马克·卢克·瓦特恩 | 申请(专利权)人: | 阿合斯印前有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 贾满意 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用液体(L)处理凸版前体(P)的设备,诸如处理印刷版前体,包括:设有处理装置(450)的处理室(400),处理装置(450)被配置为使用液体处理凸版版前体并从凸版前体中去除碎片;以及液体收集系统(900),其被配置为从处理装置(450)中接收液体和去除的碎片;其中,液体收集系统被配置为从液体中分离尺寸大于预设最小尺寸的碎片,并且至少在液体处于使用处理装置处理凸版前体之后或之前的静止状态时,允许至少部分所述碎片至少部分溶解在液体中。 | ||
搜索关键词: | 具有 减少 清洁 用于 处理 凸版 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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