[发明专利]微通道芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202180034465.7 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN115605425A 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 西冈宽哉 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: B81B1/00 分类号: B81B1/00;B81C3/00;G01N37/00;G01N35/10
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 邵秋雨;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种微通道芯片及其制造方法,上述微通道芯片即使进行高温高压灭菌处理,通道也不会变形,可维持基板彼此的强有力的接合性。本发明的微通道芯片包含在至少一个表面形成有微细通道的通道基板、盖基板、以及将它们接合的接合层,通道基板、盖基板以及接合层由环状烯烃聚合物构成,构成通道基板的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tgs1、构成盖基板的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tgs2、构成接合层的环状烯烃聚合物的玻璃化转变温度Tg2的关系为:Tgs1>Tg2、且Tgs2>Tg2,接合层的厚度在规定的范围。
搜索关键词: 通道 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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