[发明专利]分析装置、分析装置用程序及分析方法在审
| 申请号： | 202180036191.5 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN115667884A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 涩谷享司 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N21/39 | 分类号： | G01N21/39 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供的分析装置(100)，修正由于共存成分引起的共存影响或者参照光的波长偏移而产生的测量对象成分的光吸收光谱的变化，高精度地测量测量对象成分的浓度，对试样中包含的测量对象成分进行分析，其具备：光源(2)，对试样射出参照光；光检测器(3)，检测参照光透过了试样后的试样光的强度；参数确定部(64、66)，确定表示由于试样中包含的共存成分或者参照光的波长偏移而产生的测量对象成分或者干扰成分的光吸收光谱的变化的参数；以及浓度计算部(65)，根据与试样光的强度关联的强度关联信号，计算使用表示光吸收光谱的变化的参数修正后的测量对象成分的浓度。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 程序 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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