[发明专利]基板处理系统、基板处理方法以及图制作装置在审

专利信息
申请号: 202180042634.1 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN115699253A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 秋元健司 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/66;G05B19/418
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 基板处理系统具备测定装置、搬送装置、图制作装置以及评价装置。测定装置测定由对基板进行第一工序的处理的第一处理装置进行第一工序后的基板的错误。搬送装置在包括第一处理装置、第二处理装置以及所述测定装置的多个装置间搬送基板,该第二处理装置对基板进行在第一工序后进行的第二工序的处理。图制作装置针对每个基板,制作表示基板上的错误的分布的错误图。评价装置针对每个基板,基于错误图来计算表示错误的重要度的评价值。评价装置根据评价值是否为预先决定的第一阈值以上的判定结果,来向搬送装置指示被进行了第一工序后的基板的搬送目的地。
搜索关键词: 处理 系统 方法 以及 制作 装置
【主权项】:
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