[发明专利]用于最小发散离子束的调整装置在审
| 申请号： | 202180043809.0 | 申请日： | 2021-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN115917701A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 舒·佐藤;威廉·普拉托维 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/05;H01J37/147;H01J37/09 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 张琳;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸塞州*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 离子注入系统，具有配置成形成离子束的离子源。质量分析器对离子束进行质量分析，扫描元件在水平方向上扫描离子束，平行化透镜将成扇形散出的经扫描射束转化为平行移动扫描的离子束。对于不仅需要平均入射角度，还需要高度对齐的离子入射角度和紧密角度分布的应用，狭缝装置设置在平行化透镜的水平和/或垂直前焦点处。离子束在工件上的最小水平和/或垂直角度分布是通过控制扫描元件上游的射束聚焦透镜以获得通过狭缝系统的最佳射束传输来实现的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 最小 发散 离子束 调整 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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