[发明专利]位置检测装置在审

专利信息
申请号: 202180046704.0 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN115735097A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 杉本拓也;中村大佐;伊藤吉博 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: G01D5/12 分类号: G01D5/12
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 董婷婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 磁传感器(7)能够对在光学反射元件旋转时进行相对移动的位置检测用磁体(6)所施加的磁场进行检测。位置检测用磁体(6)能够因光学反射元件的旋转而通过基准位置(B),该基准位置(B)为从旋转轴(C)的轴向观察下旋转轴(C)、磁传感器(7)的中心(7c)、位置检测用磁体(6)的中心(6c)排列于直线上时的位置。磁传感器(7)配置于包含穿过位于基准位置(B)的位置检测用磁体(6)的中心(6c)的磁化方向(M)、以及旋转轴(C)的轴向的XZ平面内。
搜索关键词: 位置 检测 装置
【主权项】:
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