[发明专利]用于快速量测恢复的精确真空窗视口和表膜在审
申请号: | 202180046991.5 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN115735163A | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | R·D·西蒙斯;M·K·卡姆布哈姆帕蒂;M·J·米特里;D·M·尤罗内;李舒琪;R·L·唐克;P·A·麦肯齐 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 张宁 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了用于极紫外(EUV)辐射系统中的光学量测的系统、设备和方法。示例系统可以包括量测系统和窗口。示例量测系统可以被配置为被设置在第一环境中,并且沿着量测系统的光轴对第二环境中的区域执行一个或多个测量。示例窗口可以被配置为被设置成与光轴相交,并且将量测系统与第二环境隔离。示例窗口还可以被配置为在辐射收集器的主焦点处将相对于光轴的横向位移限制为与相对于光轴的标称横向位移相差小于约±50微米。 | ||
搜索关键词: | 用于 快速 恢复 精确 真空 窗视口 | ||
【主权项】:
暂无信息
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