[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202180048994.2 | 申请日： | 2021-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN115803683A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 吉野文博;富贺敬充;楜泽佑真;田中匠 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、及能够通过电子器件的制造方法形成CDU优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂A及酸分解性树脂B，其中，关于上述树脂A和上述树脂B，具有酸分解性基团的重复单元的摩尔基准的含有率的差的绝对值为5～20摩尔％，酸分解性基团的结构相同，质量基准的含有率的比为10/90～90/10，重均分子量的差的绝对值为100～5000，分子量分布的差的绝对值为0.05以上。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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