[发明专利]用于沉积深度变化的折射率膜的方法在审
| 申请号： | 202180059409.9 | 申请日： | 2021-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN116157547A | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·塞巴洛斯;卢多维克·戈代;卡尔·J·阿姆斯特朗;拉米·胡拉尼 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式涉及光学装置膜和形成光学装置膜的方法。具体地，本文所描述的实施方式提供了一种具有恒定氧浓度、第一材料的第一浓度分布和第二材料的第二浓度分布的光学装置膜。本文所描述和提及的第一材料的第一折射率为约2.0或更大，并且第二材料的第二折射率为小于2.0。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 深度 变化 折射率 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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